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蒸發鍍膜材料

濺射靶材
- 氧化物濺射靶材
- 高純金屬濺射靶材

坩堝、陶瓷件及清洗架

氮化鋁，AlN

編號	分子式	形狀	尺寸	純度	包裝
ENA1001	AlN	顆粒	1~4mm	99.9%	1000g

氮化鋁性質

透光范圍: 400-50000 nm 密度: 3.3g/cm3

折射率/波長: 2.2/550 nm 熔點: ＞2200℃

地址：上海市嘉定區（嘉戩公路）立新路24弄6號
上海特旺光電材料有限公司版權所有技術支持：上海九易技術

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